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辰顯光電全球首發(fā)Micro-LED創(chuàng)新產(chǎn)品「幻境InviLux」

字體變大  字體變小 發(fā)布日期:2025-03-25  瀏覽次數(shù):1076
核心提示:3月22日,2025國際顯示技術(shù)大會(ICDT)在廈門佰翔會展中心隆重開幕。自2017年首屆大會成功舉辦以來,ICDT已成為全球顯示技術(shù)領(lǐng)域
 3月22日,2025國際顯示技術(shù)大會(ICDT)在廈門佰翔會展中心隆重開幕。自2017年首屆大會成功舉辦以來,ICDT已成為全球顯示技術(shù)領(lǐng)域的年度盛會,吸引了來自世界各地的顯示技術(shù)精英齊聚一堂。辰顯光電作為Micro-LED領(lǐng)軍企業(yè),受邀參加本屆大會,致力于推動顯示技術(shù)的國際交流與合作,助力中國顯示技術(shù)從跟進(jìn)、同步到引領(lǐng)的變革。
 
全球首發(fā)Micro-LED新品「幻境InviLux」
3月23日,辰顯光電在ICDT展會上重磅發(fā)布了全球首款TFT基Micro-LED紋理屏——「幻境InviLux」。這款創(chuàng)新產(chǎn)品采用了微納紋理覆層技術(shù),能夠呈現(xiàn)木紋、大理石紋、金屬紋等多種紋理效果,并支持客制化設(shè)計,使其不僅是一塊屏幕,更可以化身為墻面、家具或藝術(shù)裝置,完美融入各類場景。與傳統(tǒng)屏幕在息屏狀態(tài)下的“黑塊”視覺割裂感不同,「幻境InviLux」在開機(jī)時呈現(xiàn)鮮亮畫面,關(guān)機(jī)時則與背景無縫融合。辰顯光電通過這款產(chǎn)品,再次彰顯了其在顯示技術(shù)領(lǐng)域的創(chuàng)新實力與對用戶需求的深刻洞察。
「幻境InviLux」:Micro-LED技術(shù)的新高度
「幻境InviLux」由辰顯光電與維信諾創(chuàng)院聯(lián)合開發(fā),標(biāo)志著Micro-LED技術(shù)在實用性與美觀性上的重大突破。該產(chǎn)品具備600nits的高亮顯示能力,拼縫像素間距變異率小于10%,確保了多屏拼接后畫面的連貫性。此外,得益于Micro-LED的高可靠性和長壽命等特性,「幻境InviLux」在智慧家庭、高端零售、數(shù)字藝術(shù)等領(lǐng)域展現(xiàn)出廣闊的應(yīng)用前景。
 
辰顯光電:開放合作,引領(lǐng)技術(shù)前沿
在同期舉辦的“第五屆Micro/Mini LED顯示關(guān)鍵技術(shù)路線研討會”上,辰顯光電副總經(jīng)理兼CTO曹軒博士深入探討了 Micro-LED封裝拼接的技術(shù)挑戰(zhàn),以及辰顯光電在這一領(lǐng)域的最新項目進(jìn)展。
曹軒博士指出拼接縫隙是影響TFT基Micro-LED拼接屏視覺效果的一個重要因素。辰顯光電通過建立拼接光學(xué)表征標(biāo)準(zhǔn),優(yōu)化邊緣像素結(jié)構(gòu),采用玻璃側(cè)壁保護(hù)工藝和封裝材料優(yōu)化等手段,將拼縫寬度控制在20微米以內(nèi),實現(xiàn)了近乎無縫的視覺效果。
 
而視角分屏問題是由于不同屏體的LED光形差異較大所導(dǎo)致的。這一問題的根源在于LED芯片制造過程中量子點厚度均勻性和芯片刻蝕控制的不一致性。辰顯光電通過優(yōu)化外延生長工藝、芯片刻蝕工藝以及采用Micro-Lens結(jié)構(gòu)設(shè)計等手段,有效解決了這一問題。經(jīng)過校準(zhǔn)后,TFT基Micro-LED拼接屏在正視角和側(cè)視角下均能保持一致的畫面效果。
辰顯光電持續(xù)引領(lǐng)Micro-LED技術(shù)革新與產(chǎn)業(yè)布局
本次展會上,辰顯光電還展示了88英寸P0.5 TFT基Micro-LED拼接屏、全球首款TFT基Micro-LED透明屏等豐富產(chǎn)品,讓行業(yè)看見辰顯在Micro-LED領(lǐng)域領(lǐng)先的技術(shù)能力。辰顯光電堅信,Micro-LED顯示技術(shù)將以卓越的性能和廣泛的應(yīng)用場景,引領(lǐng)顯示技術(shù)的新一輪革命,為全球顯示行業(yè)帶來更多可能性。(固原新聞網(wǎng))
 
 
 
 
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